尼康推出最新的步进重复 KrF 扫描仪 — NSR-S206D
尼康推出最新的步进重复 KrF 扫描仪 — NSR-S206D
2002 年 7 月 12 日
采用超高 N.A. 镜头的高通量扫描仪，以 DRAM 为目标
2002 年 7 月 12 日 – 尼康公司推出了 NSR-S206D，旨在批量生产具有 110 纳米设计规则的尖端设备。这款扫描仪是尼康成功的 KrF 扫描仪系列的第 6 代。NSR-S206D 配备了业界最高的 N.A KrF （248nm） 镜头，可提供 200mm 和 300mm 晶圆的高吞吐量。
规格摘要
分辨率 <110 纳米 数值孔径 （N.A.） 可变，0.67 – 0.82 失真 ± 12nm 以内 光源 4 KHz – 30W KrF （248 nm） 准分子激光器 相干因子 （s） 可变，0.30 – 0.90 投影放大率 1:4 曝光场 25 x 33 毫米 对准精度 20 nm 或更小 （M+ 3 s） 吞吐量 300 mm 晶圆、88 片/小时或以上
200 mm 晶圆、147 片/小时或以上
超高 N.A. （0.82）、低像差投影镜头可实现 110 nm 或更高的分辨率。此外，失真已降低到 ±12nm 或更小。这些特性以及可变照明 （s） 功能将现有的 KrF 大规模生产工艺技术扩展到 110 nm 节点。通过使用 4 KHz-30W 激光器，200 毫米晶圆的吞吐量至少提高到每小时 147 片晶圆，300 毫米晶圆的吞吐量至少提高到每小时 88 片晶圆。为了支持不断缩小的设备功能，该系统的对准精度提高了 33%，从 30 纳米提高到 20 纳米。
这些特性使该系统对于大批量、成本敏感型产品（如 DRAM）的制造商特别有价值，他们不断缩小设计规则，不想投资 ArF 等额外技术。
关于尼康：尼康公司是微电子制造行业光刻设备的全球领导者，拥有 40% 的市场份额，在全球安装了 7,000 多套曝光系统，其中包括 700 多套 DUV 扫描系统。Nikon 提供业内最广泛的生产级步进机和扫描仪选择。这些产品服务于晶圆、光掩模、平板显示器 （LCD） 和薄膜磁头 （TFH） 行业。Nikon Precision Inc. 为北美的 Nikon 光刻设备提供服务、培训、应用和技术支持，以及销售和营销。
Nikon Introduces Latest Step-and-Repeat KrF Scanner — NSR-S206D
July 12, 2002
High-throughput Scanner Featuring Ultra-High N.A. Lens Targets DRAMs
July 12, 2002 – Targeted at mass production of cutting-edge devices with 110-nm design rules, Nikon Corporation introduced the NSR-S206D. This scanner is the 6th generation in Nikon’s successful KrF scanner series. The NSR-S206D is equipped with the industry’s highest N.A KrF (248nm) lens and provides high throughput of both 200mm and 300mm wafers.
Specification Summary
Resolution <110 nm Numerical Aperture (N.A.) Variable, 0.67 – 0.82 Distortion Within ± 12nm Light Source 4 KHz – 30W KrF (248 nm) Excimer Laser Coherency Factor (s) Variable, 0.30 – 0.90 Projection Magnification 1:4 Exposure Field 25 x 33 mm Alignment Accuracy 20 nm or less (M+ 3 s) Throughput 300 mm wafers, 88 wafers/hr or more
200 mm wafers, 147 wafers/hr. or more
The Ultra High N.A. (0.82), low aberration projection lens achieves a resolution of 110 nm or better. Additionally, distortion has been reduced to ±12nm or less. These characteristics along with a variable illumination (s) feature, extend existing KrF process technology for mass production to the 110 nm node. By utilizing a 4 KHz-30W laser, throughput has been improved to at least 147 wafers/hr for 200-mm wafers and 88 wafers/hr for 300-mm wafers. To support ever-decreasing device features, the system boasts a 33% improvement in alignment accuracy — from 30 to 20 nanometers.
These features make this system especially valuable to makers of high volume, cost sensitive products like DRAMs who are constantly shrinking design rules and do not want to invest in additional technology such as ArF.
About Nikon: Nikon Corporation, is the world leader in lithography equipment for the microelectronics manufacturing industry with a 40% market share and more than 7,000 exposure systems installed worldwide including over 700 DUV scanning systems. Nikon offers the most extensive selection of production-class steppers and scanners in the industry. These products serve the wafer, photomask, flat panel display (LCD) and thin-film magnetic head (TFH) industries. Nikon Precision Inc. provides service, training, applications and technical support, as well as sales and marketing for Nikon lithography equipment in North America.
厂家名称
深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的国家级高新技术企业。 致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体...